IONPURE VNX55-HH CEDI电去离子系统10m³/h高硬度水抛光系统

Ionpure VNX55-HH是一种电去离子系统，专为高硬度给水设计，可接受高达2ppm的CaCO硬度₃没有上游软化。额定流量为10 m³/h（44 gpm），可输送；＞16 MΩ·cm的产品电阻率，水回收率为80-90%，消除了酸和碱的再生。专为发电厂锅炉补给水和工业过程用水而设计。

什么是用于水抛光的电去离子系统？

电去离子系统使用直流电场、离子交换膜和混合床树脂连续去除反渗透渗透渗透液中的溶解离子。它作为一个水抛光步骤，取代了化学再生混合床去离子器，在不进行危险处理的情况下生产高纯水。

在CEDI技术中，标准模块需要软化或硬度非常低的进料，以防止结垢。VNX55-HH是一种专门的高硬度耐受CEDI模块，内部经过优化，可在总硬度高达2ppm（以CaCO计）的单程反渗透渗透物上可靠运行₃).这使其成为发电和工业蒸汽用户的直接适用水抛光解决方案，在这些用户中，给水硬度超过了典型的CEDI限制。

主要规格

标称产品流量：10 m³/h（44 gpm）

产品水电阻率：amp；>；16 MΩ·cm

硬度公差（以CaCO计）₃):≤2.0 ppm

给水电导率：amp；lt；40µS/cm

给水温度范围：5–45°C（41–113°F）

给水压力范围：1.4–7巴（20–100磅/平方英寸）

游离余氯耐受性：amp；lt；0.02 ppm（以Cl计₂)

给水二氧化硅（SiO₂):amp；lt；1.0 ppm

水回收率：80-90%

工作电压范围：0-600VDC

工作电流范围：2.0–13.2 A

二氧化硅（SiO₂)拆卸：amp；大于90%

模块尺寸（直径×长度）：44.45厘米×213.3厘米（17.5英寸×84英寸）

最高环境温度：45°C（113°F）

连接类型：50mm对接焊聚丙烯（PP）法兰连接

认证：CE标志、ISO 9001:2015和ISO 14001:2015制造商设施认证、清真认证

密封技术：通孔垫片设计

技术亮点

耐硬度内部设计可接受高达2ppm的进料硬度，而不会软化。工厂工程师的一个常见问题是，当硬度接近2ppm时，单程反渗透渗透液是否可以直接供给CEDI模块——VNX55-HH是专门为这种情况设计的。树脂、膜和流道几何形状经过优化，可防止钙和镁的水垢沉淀，消除上游软化剂的资本成本和化学消耗。

无化学物质的连续再生消除了酸和碱的处理。电去离子系统在正常运行期间通过电化学方式再生其树脂。不需要散装化学品储存、中和罐或树脂更换计划，大大降低了工厂安全风险和人工劳动。

80-90%的水回收率可减少给水和废水量。通过再循环精矿流，VNX55-HH仅将10-20%的进料流送至废料。对于10m³/h的模块，这意味着1-2m³/h的废水，与产生大量化学废物的传统离子交换再生循环相比，可以显著节省成本。

通孔垫片密封可防止跨隔室泄漏。多个浓缩室使用双O型圈和通孔垫片密封，在多年的运行中保持稳定的产品水质。这种设计避免了可能导致多隔室模块电阻率下降的内部泄漏。

预接线接线盒加快了现场安装速度。每个模块上都有一个工厂安装的带有标签电源线的接线盒，简化了与直流电源的电气连接，缩短了调试时间。

应用程序

发电厂高压锅炉给水补给：生产和；gt；60至180巴汽包锅炉的补给水为16 MΩ·cm。VNX55-HH在硬度高达2ppm的单程反渗透渗透物上运行，省去了软化剂，提供了一个紧凑的水抛光系统，减少了脱盐装置的占地面积和化学处理。

工业蒸汽发生和热电联产设施：为成套锅炉和热回收蒸汽发生器提供无硅、低电导率的水。二氧化硅去除剂；＞90%可防止气相二氧化硅携带和涡轮机叶片沉积。

石化和炼油厂工艺用水：为催化剂补给、洗涤塔进料和工艺稀释提供高纯水，而无需在分类区域使用酸/碱再生剂系统。

联合循环发电厂水处理：与多级反渗透预处理相结合，为普通水精处理系统的氮氧化物控制和蒸汽循环补给提供连续的精处理水。

更换老化的混床抛光机：使用现有的反渗透渗透管线，将现有的去离子机组升级为无化学物质的电去离子系统，减少操作员接触硫酸和氢氧化钠。

选择指南

适用应用：

给水总硬度以CaCO计始终在0.1至2.0 ppm之间₃,尤其是单程反渗透，不会软化

发电和工业蒸汽用户需求；gt；16 MΩ·cm产品水，其中不需要18 MΩ·厘米电阻率

旨在消除现场危险化学品和废物中和以进行水处理的设施

项目流量需求从5m³/h以上，通过并联多个VNX55-HH模块可扩展到200m³/h以上

不建议用于：

需要18MΩ·cm的超纯水回路，带硼和二氧化硅去除剂；＞99%。在半导体或微电子应用中，选择Ionpure VNX55-EX，它保证18MΩ·cm和安培；硼/二氧化硅去除率＞99%。

给水硬度超过2.0 ppm（以CaCO计）₃.如果原水或反渗透渗透物超过此限制，请在上游安装软水器或考虑采用耐硬度的反渗透膜预处理设计。

需要小于2m³/h连续流量的小型抛光回路。在深度调节下操作VNX55-HH会导致流量分配不均，并缩短树脂寿命。对于较小的应用，选择Ionpure LX或IP-LXM系列模块。

常见问题

1.VNX55-HH模块可以处理的最大硬度是多少？

VNX55-HH可接受高达2.0 ppm的CaCO总硬度₃连续不断地。这使得在大多数市政和地表水应用中，可以直接从单程反渗透渗透渗透物中进料，而无需软水器。

VNX55-HH是否适用于半导体超纯水系统？

不，我们推荐VNX55-EX用于半导体应用。VNX55-HH生产放大器；>；16 MΩ·cm，并移除放大器；＞90%的二氧化硅，而半导体抛光需要18MΩ·cm的电阻率和安培；＞99%的二氧化硅和硼去除率。

3.VNX55-HH电去离子系统的成本是多少？

VNX55-HH模块的价格通常在25000至40000美元之间，具体取决于项目规模和配置。价格因汇率、关税和工厂调整而波动。如需准确报价，请直接联系北京众平科技。

4.我们可以在购买前进行试点测试或租用CEDI模块吗？

我们使用带有一个VNX55-HH模块的预组装橇进行初步测试，确认产品水质、回收率和实际给水的硬度公差。北京众平科技协调试点设置和性能验证。

5.购买水抛光系统有哪些付款条件？

我们接受不可撤销信用证（即期信用证）和电汇（T/T）。对于多模块资本项目，北京众平科技在信用评估后提供基于里程碑的付款时间表。

6.VNX55-HH模块的交付周期是多久？

标准工厂交货期为8-10周。拥有当地库存的区域分销商有时可以在3-4周内发货。我们在报价时确认当前的库存状态。

7.VNX55-HH之前需要什么预处理？

给水必须是具有导电性的反渗透渗透渗透水；lt；40µS/cm，硬度amp；碳酸钙含量低于2.0 ppm₃,游离氯；lt；0.02 ppm，温度在5-45°C之间。标准的预处理布置为单程反渗透，带紫外线脱氯和5µm滤筒过滤；不需要柔软剂。

8.VNX55-HH的水回收率和废品量是多少？

该模块在80-90%的水回收率下运行。在标称10 m³/h的产品流量下，排出流量为1.1-2.5 m³/h。硬度较高的给水倾向于回收范围的下限，以防止结垢。

9.你们提供启动和调试支持吗？

我们为每个现场的第一个模块安装提供工厂监督启动，包括完整性测试、直流电源设置和操作员培训。北京众平科技还提供年度服务协议，以提供持续支持。

10.VNX55-HH模块有什么保修？

我们提供2年有限保修，涵盖指定操作条件下的材料和工艺。可延长保修期至5年。我们需要给水质量记录和年度性能数据来维持保修范围。